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中频镀黑镀膜设备
发布时间:2018-07-06 17:26
中频镀黑镀膜设备








1.真空镀黑设备镀制各种高质量的光滑的超硬膜层及装饰膜层,(不但可以镀氮化钛、氮化锆、氮化铝钛、氮化铬等等氮化物膜层,生成膜层光滑细腻,结合力高,硬度好,生成膜层速度快。我们的设备是按照客户需求进行定制的,我们会根据您的具体需求定制适合您的设备,具体细节请联系我们。
以下参数仅供参考

  参数 型号 数量
真空室结构 立式前开门,双层或冷却槽冷却    
真空室尺寸 ф800×1000   1
抽气速率 1×105Pa~3×10-3Pa≤15min    
极限真空 ≤8×10-4Pa    
系统配套 维持泵 2X-15 1
机械泵 2X-70 1
扩散泵 KT-500 1
工件系统 工件系统                    行星式公自转形式(转轴数量8轴,可自定数量)   8
加热方式 边缘安装不锈钢加热管加热   4
离子轰击 20KW逆变偏压 PLS-20KW 1
弧靶 40-200A可调 TIG-250 4
磁控靶数量 2平面靶   2
中频电源 20KW中频电源 MF-20KW 1
工作方式 PLC半自动控制或PC+PLC全自动控制方式    
工作气体 Ar N2 O2    
总功率 30KW    
压缩空气 0.4~0.8MPa    
水冷系统 水压/水温:≤25℃/≥0.25MPa(用户自备)    
 
 
2.适应广泛镀膜靶材,无论金属还是介质、化合材料都可以利用溅射工艺进行镀膜及成膜,使膜层附着力、致密度、重复度及颜色一致性好等特点。可镀制TiN、TiC、TiCN、TiAIN、CrN、CU、AU、金刚石膜(DLC)、装饰膜等非金属及其化合物的膜层和复合膜层。
碳化钛、碳化锆等等氮化物和炭化物膜层,钛、锆、金、银、铝、铜等等原金属膜层,而且可以SIO2、SI3N4、AI203、Sn02、ZnO、Ta205、TI02等等膜层)炉内各种材料离化率为100%。
 
3.广泛应用于镀制各种工具和汽车配件硬膜及各种洁具、家具配件、手表配件等等表面特种颜色膜层装饰。
 
产品功能参数全部可以定制定作,部分参数介绍只做参考,我公司可以给您提供您满意的定制产品。
 
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