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蒸发镀膜设备的工作原理

蒸发镀膜是在真空条件下通过电阻或电子束加热镀膜材料,使其原子或分子从表面蒸出,沉积到基片表面从而形成薄膜的技术,该技术具有使用范围广、薄膜厚度高度可控、技术成熟、成本低廉等特点。目前,真空蒸镀技术已经广泛应用于OLED、有机光伏、光学膜、新型半导体、装饰镀膜等领域,为一种不可缺少的镀膜技术。


蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。 对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜。


龙口市比特真空技术有限公司,专业从事各种真空镀膜、磁控溅射镀膜、蒸发镀膜设备的研发制造,致力于研发和生产真空镀膜机,为客户提供定制化的真空镀膜工艺解决方案和镀膜设备,产品通过国内外第三方权威认证,如:CE,ISO等,已大批量出口几十个国家,深受国内外用户好评,欢迎广大顾客来电咨询,电话:13808911540.


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