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真空镀膜技术的一些术语介绍
发布时间:2019-05-06 15:52
    真空镀膜技术的术语介绍如下:
    1、基片:膜层承受体。
    2、试验基片:在镀膜开始、镀膜过程中或镀膜结束后用作测量和(或)试验的基片。
    3、镀膜角度:入射到基片上的粒子方向与被镀表面法线之间的夹角。
    4、镀膜材料:用来制取膜层的原材料。
    5、蒸发材料:在真空蒸发中用来蒸发的镀膜材料。
    6、溅射材料:有真空溅射中用来溅射的镀膜材料。
    7、膜层材料(膜层材质):组成膜层的材料。
    8、蒸发速率:在给定时间间隔内,蒸发出来的材料量,除以该时间间隔。
真空镀膜
    9、直接加热的蒸发:蒸发材料蒸发所必须的热量是对蒸发材料(在坩埚中或不用坩埚)本身加热的蒸发。
    10、沉积速率:在给定时间间隔内,沉积在基片上的材料量,除以该时间间隔和基片表面积。
    11、真空蒸膜:使镀膜材料蒸发的真空镀膜过程。
    12、同时蒸发:用数个蒸发器把各种蒸发材料同时蒸镀到基片上的真空蒸发。
    13、蒸发场蒸发:由蒸发场同时蒸发的材料到基片上进行蒸镀的真空蒸发(此工艺应用于大面积蒸发以获得到理想的膜厚分布)。
    14、反应性真空蒸发:通过与气体反应获得理想化学成分的膜层材料的真空蒸发。
    15、蒸发器中的反应性真空蒸发:与蒸发器中各种蒸发材料反应,而获得理想化学成分膜层材料的真空蒸发。
    真空镀膜技术中有很多的术语是需要进行了解的,要不然在使用的时候就会出现问题,所以大家在使用之前一定要先对其进行了解了之后在进行使用。