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离子镀膜的工作原理及操作方法
发布时间:2018-08-29 19:57
离子镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空蒸发镀膜机、真空多弧离子镀膜机、真空中频磁控溅射镀膜机、多功能中频磁控溅射多弧复合离子镀膜机、真空光学(电子束蒸发)镀膜机等系列真空镀膜设备,主要思路是分成蒸发和溅射两种。
 
离子溅射镀膜,多半是在反应气体存在下进行的,化合物沉积膜的稳定性和光学常数,依赖于气体的类型和阴极材料。常用的反应气体为氧气,常用的阴极材料有铁、镍、铜铅等,有时电刚金、铂、钯、铟和其他金属。反应溅射形成的氧化物是属于有吸收而折射率不是很高的镀膜材料。
 
溅射镀膜的操作与溅射镀膜设备是密切相关的。目前商业上已有很精制的设备安装在显微镜下的载物台的位置上。溅射镀膜时,将抛光的试样安放在式样头具上,倾转到面对电子枪(阴极)的位置,调节溅射室中的气压,辉光放电,阴极溅射,反应溅射沉积。一定时间后,中断溅射,把溅射沉积的试样表面,转回到面对物镜的位置,观察试样表面的颜色,来评定沉积膜的厚度,当要求的颜色得到时,镀膜操作停止。